El crecimiento de películas de óxidos anódicos sobre diferentes metales válvula ha sido estudiado extensivamente y está bien establecido que cuando el metal es polarizado anódicamente, el crecimiento de la película de óxido se produce por un mecanismo de migración iónica asistida por el campo eléctrico en la película [1,2].
El crecimiento y la estabilidad a circuito abierto de películas pasivas han sido investigados empleando métodos electroquímicos, ópticos y mediciones de capacitancia [3-5] y se ha determinado la influencia de otros procesos (hidratación, generación de rugosidad, etc.) que tienen lugar simultáneamente con el crecimiento y disolución de la película. A pesar de ello, la voltamperometría cíclica con potencial de corte anódico fijo o creciente es un método simple que permite determinar las características del crecimiento anódico y disolución de películas de óxido sobre metales. Este tipo de mediciones han sido empleadas para interpretar el crecimiento y disolución de películas de óxido de aluminio en diferentes medios por medio de simulaciones para el crecimiento por el mecanismo de conducción de campo alto [6]. Sin embargo, para el caso de existencia de disolución química las ecuaciones empleadas para obtener la dependencia del espesor con el tiempo son erróneas ya que no tienen en cuenta que la pérdida de carga (o espesor) debería incrementar con el tiempo y el tratamiento cuantitativo informado no es satisfactorio.
En este trabajo se desarrollan las ecuaciones que describen el comportamiento potenciodinámico del crecimiento y disolución química de películas de óxido que crecen por un mecanismo de migración asistida por el campo eléctrico y se encuentran las expresiones de la corriente de disolución y su relación con la corriente de estado estacionario y la velocidad de barrido de potencial. La metodología se aplica a la formación de películas de óxido sobre distintos metales (W, Bi, Sb) y los resultados experimentales se comparan con las simulaciones obtenidas a partir de los modelos.

Referencias
[1] M.J. Dignam, Comprehensive Treatise of Electrochemistry, Vol 4, p. 247. Eds J.O?M. Bockris, B.E. Conway, E. Yeager, R.E. White, Plenum Pub, 1981.
[2] E.M. Patrito, R.M. Torresi, E.P.M. Leiva, V.A. Macagno, J. Electrochem. Soc. 137 (1990) 524.
[3] D.J. Blackwood, L.M. Peter, D.E.Williams, Electrochim. Acta 33 (1988) 1143.
[4] M.A. Pérez, M. López Teijelo, Thin Solid Films 449 (2004) 138.
[5] M.A. Pérez, M. López Teijelo, J. Phys. Chem B 109 (2005) 19369.
[6] H. Lee, F. Xu, C.S. Jeffcoate, H.S. Isaacs, Electrochemical and Solid-State Letters 4 (2001) B31.