Las películas de óxido están presentes en la mayoría de las superficies metálicas expuestas a ambientes oxidantes. En general, estas películas son compactas y pobremente conductoras, aunque pueden poseer poros o fisuras que modifican sus propiedades dieléctricas. Por otra parte, representan un tópico especial en la electroquímica y han sido ampliamente estudiadas en los últimos 200 años. A pesar de ello, los procesos fundamentales que controlan el crecimiento no son aun completamente comprendidos. El estudio de sus propiedades es de gran interés debido a que son ampliamente utilizadas como materiales resistentes a la corrosión.
En este trabajo se estudian la cinética de crecimiento y la estructura de películas anódicas de óxidos de metales válvula (principalmente Sb y Bi) en diferentes electrolitos y en presencia de aniones agresivos (Cl-) en un amplio espectro de condiciones de crecimiento. La morfología superficial de las películas anódicas fue obtenida por microscopía de fuerzas atómicas (AFM). A su vez, las propiedades electrónicas se analizan a partir de mediciones de espectroscopía de impedancia electroquímica.