Resumen:
La cara 111 de Si es de interés dado que puede ser preparada química y estructuralmente bien definidas por etching con NH4F(ac) el cual proporciona superficies de Si hidrogenadas, que poseen largas terrazas donde los átomos de Si atop son terminados por
átomos de H orientados normal al plano de la superficie [1]. Estas superficies hidrogenadas pueden ser cloradas total o parcialmente [2] en fase gaseosa. La ventaja de las superficies cloradas es que son mucho más reactivas que las hidrogenadas, y deben ser
manipuladas en atmosfera inerte. La formación de enlaces Si-N, Si-O y Si-S, es muy importante, tanto para la aplicación en la industria de la microelectrónica, como para la creación de superficies biocompatibles. Así, el objetivo de este trabajo fue entender, mediante cálculos teóricos a nivel de teoría del funcional de la densidad (DFT), la reactividad de superficies cloradas, hidrogenadas y mixtas de silicio, frente a moléculas que contienen grupos funcionales con, átomos de N, O y S. Para ello se estudiaron los mecanismos de reacción de NH3, CH2NH3,H2O, CH3OH, H2S y CH3SHen las diferentes superficies.