SORIA FEDERICO ARIEL
Congresos y reuniones científicas
Título:
Síntesis de multicapas de grafeno por
Autor/es:
F. A .SORIA; L. E. FOA TORRES; M. I. OLIVA
Lugar:
Córdoba
Reunión:
Congreso; NANO-CÓRDOBA 2014; 2014
Resumen:
La posibilidad de aprovechar pr ́acticamente todas las propiedades del grafeno, depende directamente de una
t ́ecnica de producci ́on ́otpima y controlable. El m ́etodo inicial y ampliamente difundido de
es la micro exfoliaci ́on[1]. Actualmente existen otras t ́ecnicas tales como: descomposici ́on t ́ermica de un material
que contenga carbono[2], por grafitizaci ́on de carbono amorfo [3], segregaci ́on de carbono a partir de sustratos
como SiC [4], deposici ́on qu ́ımica en fase vapor (CVD), la cual permite obtener grafeno de alta calidad [5]. Sin
embargo, se ha demostrado que la deposici ́on por l ́aser pulsado (PLD) es un proceso r ́apido que permite obtener
unas pocas capas de grafeno sobre diferentes sustratos [6].
La t ́ecnica consiste en realizar un dep ́osito inicial de un metal que act ́ua como catalizador (Ni, Cu, Pt, Co)
sobre el cual se deposita posteriormente carbono amorfo. Posteriormente mediante un calentamiento en vac ́ıo o
en atm ́osfera inerte se produce las multicapas de grafeno. La ventaja de la t ́ecnica radica en que se puede manejar
la cantidad de carbono amorfo depositado y de esta manera la cantidad de capas de grafeno.
En el trabajo se muestran los resultados de la s ́ıntesis de multicapas de grafeno sobre diferentes sustratos
(SiO2 y Si(100)). La caracterizaci ́on se realiz ́o por espectroscopia Raman y por SEM. Se analiza el efecto de la
atm ́osfera de deposici ́on, la temperatura y tiempo de calentamiento de las muestras. Del an ́alisis de los espectro
Raman se deduce que la formaci ́on de las multiplicas de grafeno es fuertemente dependiente de la temperatura
de deposici ́on de Ni y la atm ́osfera de deposici ́on. Las mejores capas obtenidas se obtuvieron en atm ́osfera de Ar.
Esto se visualiza en una banda 2D mas estrecha en comparaci ́on con las capas realizadas solo en vac ́ıo. En estas
ultimas se observa la presencia de oxido de grafeno.
t ́ecnica de producci ́on ́otpima y controlable. El m ́etodo inicial y ampliamente difundido de
es la micro exfoliaci ́on[1]. Actualmente existen otras t ́ecnicas tales como: descomposici ́on t ́ermica de un material
que contenga carbono[2], por grafitizaci ́on de carbono amorfo [3], segregaci ́on de carbono a partir de sustratos
como SiC [4], deposici ́on qu ́ımica en fase vapor (CVD), la cual permite obtener grafeno de alta calidad [5]. Sin
embargo, se ha demostrado que la deposici ́on por l ́aser pulsado (PLD) es un proceso r ́apido que permite obtener
unas pocas capas de grafeno sobre diferentes sustratos [6].
La t ́ecnica consiste en realizar un dep ́osito inicial de un metal que act ́ua como catalizador (Ni, Cu, Pt, Co)
sobre el cual se deposita posteriormente carbono amorfo. Posteriormente mediante un calentamiento en vac ́ıo o
en atm ́osfera inerte se produce las multicapas de grafeno. La ventaja de la t ́ecnica radica en que se puede manejar
la cantidad de carbono amorfo depositado y de esta manera la cantidad de capas de grafeno.
En el trabajo se muestran los resultados de la s ́ıntesis de multicapas de grafeno sobre diferentes sustratos
(SiO2 y Si(100)). La caracterizaci ́on se realiz ́o por espectroscopia Raman y por SEM. Se analiza el efecto de la
atm ́osfera de deposici ́on, la temperatura y tiempo de calentamiento de las muestras. Del an ́alisis de los espectro
Raman se deduce que la formaci ́on de las multiplicas de grafeno es fuertemente dependiente de la temperatura
de deposici ́on de Ni y la atm ́osfera de deposici ́on. Las mejores capas obtenidas se obtuvieron en atm ́osfera de Ar.
Esto se visualiza en una banda 2D mas estrecha en comparaci ́on con las capas realizadas solo en vac ́ıo. En estas
ultimas se observa la presencia de oxido de grafeno.
